- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Tooted
- View as
SiC-kattega ICP-komponent
Semicorexi SiC-kattega ICP-komponent on loodud spetsiaalselt kõrge temperatuuriga vahvlite käitlemise protsesside jaoks, nagu epitaksimine ja MOCVD. Peene SiC-kristallkattega tagavad meie kandurid suurepärase kuumakindluse, ühtlase termilise ühtluse ja vastupidava keemilise vastupidavuse.
Loe rohkemSaada päring
Kõrge temperatuuriga SiC kate plasmasöövituskambritele
Kui rääkida vahvlite käitlemisprotsessidest, nagu epitaksimine ja MOCVD, on Semicorexi kõrge temperatuuriga SiC kate plasmasöövituskambrite jaoks parim valik. Meie kandurid tagavad suurepärase kuumakindluse, ühtlase termilise ühtluse ja vastupidava keemilise vastupidavuse tänu meie peenele SiC kristallkattele.
Loe rohkemSaada päring
ICP plasmasöövitusalus
Semicorexi ICP plasmasöövitusalus on loodud spetsiaalselt kõrge temperatuuriga vahvlite käitlemise protsesside jaoks, nagu epitaksia ja MOCVD. Stabiilse ja kõrge temperatuuriga kuni 1600°C oksüdatsioonikindlusega tagavad meie kandurid ühtlased termilised profiilid, laminaarsed gaasivoolumustrid ning hoiavad ära saastumise või lisandite difusiooni.
Loe rohkemSaada päring
ICP plasmasöövitussüsteem
Semicorexi SiC-kattega kandja ICP plasmasöövitussüsteemi jaoks on usaldusväärne ja kulutõhus lahendus kõrgtemperatuuriliste vahvlite käitlemise protsesside jaoks, nagu epitaksia ja MOCVD. Meie kanduritel on peen SiC kristallkate, mis tagab suurepärase kuumakindluse, ühtlase termilise ühtluse ja vastupidava keemilise vastupidavuse.
Loe rohkemSaada päring
Induktiivselt sidestatud plasma (ICP)
Semicorexi ränikarbiidiga kaetud sustseptor induktiivselt sidestatud plasmale (ICP) on loodud spetsiaalselt kõrgtemperatuuriliste vahvlite käitlemise protsesside jaoks, nagu epitaksia ja MOCVD. Stabiilse, kõrge temperatuuriga kuni 1600°C oksüdatsioonikindlusega tagavad meie kandurid ühtlased termilised profiilid, laminaarsed gaasivoolumustrid ning hoiavad ära saastumise või lisandite difusiooni.
Loe rohkemSaada päring
ICP söövitusvahvlihoidja
Semicorexi ICP söövitusvahvlihoidja on ideaalne lahendus kõrge temperatuuriga vahvlite käitlemise protsesside jaoks, nagu epitaksia ja MOCVD. Stabiilse, kõrge temperatuuriga kuni 1600°C oksüdatsioonikindlusega tagavad meie kandurid ühtlased termilised profiilid, laminaarsed gaasivoolumustrid ning hoiavad ära saastumise või lisandite difusiooni.
Loe rohkemSaada päring
Kas soovite osta täiustatud ja vastupidavat Etch-Carrier-ICP-PSS? Semicorex on kindlasti teie hea valik. Oleme Hiinas tuntud kui üks konkurentsivõimelisemaid Etch-Carrier-ICP-PSS tootjaid ja tarnijaid. Pakume ka hulgipakendeid. Teie piirkonna tegelike vajaduste rahuldamiseks võite vajada kohandatud teenuseid, võite jätta meile sõnumi veebisaidil oleva kontaktandmete kaudu. Ootame siiralt uusi ja vanu kliente külastama meie tehast konsultatsioonideks ja läbirääkimisteks.
