Silicon Wafer kütteseade

Semicorex Silicon Wafer Heater on MOCVD-ga kaetud ränikarbiidiga, mis võib töötada kõrge temperatuuriga ahjus temperatuuril üle 3000 °C inertses atmosfääris, 2200 °C vaakumis. SiC Coating on tihe, kulumiskindel ränikarbiidist (SiC) kate.
Meie Silicon Wafer Soojendil on kõrged korrosiooni- ja kuumakindlusomadused ning suurepärane soojusjuhtivus. Me kanname SiC õhukeste kihtidena grafiidile keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) protsessi abil.
Semicorexis keskendume oma klientidele kvaliteetsete ja kulutõhusate toodete pakkumisele. Meie Silicon Wafer Heater on hinnaeelisega ja seda eksporditakse paljudele Euroopa ja Ameerika turgudele. Meie eesmärk on olla teie pikaajaline partner, pakkudes ühtlase kvaliteediga tooteid ja erakordset klienditeenindust.

Silicon Wafer Heater parameetrid

Silicon Wafer Heater omadused

- Ränikarbiidkatted kasutasid kasutusea pikendamiseks CVD meetodit.
- Suure jõudlusega puhastatud jäigast süsinikust valmistatud soojusisolatsioon.
- Nii grafiidist substraadil kui ka ränikarbiidikihil on kõrge soojusjuhtivus ja suurepärased soojusjaotuse omadused.
- Kõrge puhtusastmega grafiit ja SiC kate, mis tagab aukude vastupidavuse ja pikema eluea

Pakume oksüdatsioonivastast ja pika elueaga grafiittiiglit, grafiitvormi ja kõiki grafiitküttekeha osi.