Hiina Si Vahvel Tootjad, tarnijad, tehas

Heitke pilk meie laiaulatuslikule valikuleräniplaadid, mis on hoolikalt valmistatud, et vastata tipptasemel pooljuhtrakenduste nõudmistele. NeedSi vahvlidon konstrueeritud täpselt ja konstrueeritud töökindluse tagamiseks, olles põhialuseks täiustatud elektroonikaseadmete, mikrokiipide ja fotogalvaaniliste elementide arendamiseks. Ükskõik, kas olete uurimisasutus, pooljuhtide tootja või akadeemiline asutus, meie valikräniplaadidpakub võrratut kvaliteeti ja jõudlust.

Tehnilised andmed:

Materjal: kõrge puhtusastmega monokristalliline räni

Läbimõõt: saadaval erinevates suurustes, sealhulgas 100 mm, 150 mm, 200 mm ja 300 mm (kohandatud suurused on saadaval nõudmisel)

Orientatsioon: saadaval on orientatsioonid <100>, <111>, <110>

Takistus: kohandatud eritakistuse valikud, mis vastavad konkreetsetele rakendusnõuetele, vahemikus 0,001 Ωcm kuni 10 000 Ωcm

Pinna viimistlus: ühe- või kahepoolne poleeritud täpse kareduse reguleerimisega (Ra)

TTV (Total Thickness Variation): rangelt kontrollitud TTV, mis tagab kogu vahvli ühtluse

Vibu/lõime: minimeeritud vibu ja lõime, et tagada ühilduvus pooljuhtide töötlemisseadmetega

Packaging: Wafers are securely packaged in cleanroom environments to prevent contamination and ensure integrity during transportation and storage

Rakendused:

● Pooljuhtseadmete valmistamine

● MEMS (mikroelektromehaanilised süsteemid)

●l Integraallülituste (IC-de) tootmine

● Optoelektroonika

● Fotogalvaanika (päikeseelemendid)

● Mikrofluidika

● Anduritehnoloogia

● Kvantarvutite uurimine

Kasutage meie silikoonplaatide erakordset kvaliteeti ja järjepidevust, et edendada innovatsiooni ning kiirendada oma pooljuhtide uurimis- ja arendusprojekte. Rangete kvaliteedikontrolli meetmetega ja pühendumisega tipptasemele annavad meie räniplaadid teadlastele ja tootjatele võimaluse nihutada tehnoloogia piire ning viia sisse järgmine läbimurrete laine elektroonikas ja mujal.