Silicon Wafer

Räniplaat on õhuke ümmargune ränikristalli viil, mida kasutatakse integraallülituste ja muude mikroseadmete valmistamisel. Tavaliselt toodetakse neid ränivahvleid põhjaliku protsessiga, mis hõlmab ülipuhta räni monokristalli valuploki kasvatamist ja seejärel selle täpset viilutamist õhukesteks ketasteks. Räniplaadid on põhisubstraadiks, millele pooljuhtseadmed on ehitatud.

Semicorex Silicon vahvleid on erineva suurusega, läbimõõduga mõnest tollist üle jala, kõige levinumad suurused on 100 mm (4 tolli), 150 mm (6 tolli) ja 300 mm (12 tolli). Vahvli suuruse valik sõltub sellistest teguritest nagu tootmise efektiivsus, seadme tootlikkus ja kulukaalutlused.

Räniplaatidel on erakordsed elektrilised omadused, mistõttu need sobivad ideaalselt pooljuhtseadmete loomiseks. Nende kristalne struktuur võimaldab täpset dopingut lisanditega, et luua erineva elektrijuhtivusega piirkondi, mis on olulised transistoride, dioodide ja muude elektrooniliste komponentide moodustamiseks.