Vahvliprotsessi kütteseade

Semicorex Wafer Process Heater on valmistatud ränikarbiidkatte (SiC) grafiidist, kate kantakse CVD-meetodil kõrge tihedusega grafiidi teatud klassidele, nii et see võib töötada kõrge temperatuuriga ahjus temperatuuril üle 3000 ° C inertses atmosfääris. 2200°C vaakumis.
Wafer Process Heater materjali erilised omadused ja väike mass võimaldavad kiiret kuumutamist, ühtlast temperatuurijaotust ja silmapaistvat juhtimistäpsust. Võrreldes teiste materjalidega jääb ränikarbiidi pind madala soojuspaisumise tõttu tasaseks isegi kiirete temperatuurimuutuste korral. Pliidiplaadid sobivad väga hästi nõudlike protsesside jaoks pooljuhtide töötlemissüsteemides.
Semicorexis keskendume oma klientidele kvaliteetsete ja kulutõhusate toodete pakkumisele. Meie vahvliprotsessisoojendil on hinnaeelis ja seda eksporditakse paljudele Euroopa ja Ameerika turgudele. Meie eesmärk on olla teie pikaajaline partner, pakkudes ühtlase kvaliteediga tooteid ja erakordset klienditeenindust.

Vahvliprotsessisoojendi parameetrid

Vahvliprotsessisoojendi omadused

- CVD SiC katted kasutusea parandamiseks.
- Kõrge temperatuurikindlus, korrosioonikindlus, pikk kasutusiga, võib parandada vahvlite kvaliteeti ja saagikust.
- Sellel on äärmiselt madal soojuspaisumistegur, kõrge temperatuuritaluvus, kõrge kulumiskindlus, hea isolatsioon, hea keemiline stabiilsus ja peaaegu lilla (punase) nähtava valguse läbitung.

Pakume oksüdatsioonivastast ja pika elueaga grafiittiiglit, grafiitvormi ja kõiki grafiitküttekeha osi.