Semicorex on juhtiv sõltumatu omandis olev ränikarbiidiga kaetud grafiidi, täppistöötlusega kõrge puhtusastmega grafiidi tootja, mis keskendub ränikarbiidiga kaetud grafiidile, ränikarbiidi keraamikale ja pooljuhtide tootmise MOCVP valdkondadele. Meie GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrieril on hea hinnaeelis ja see hõlmab paljusid Euroopa ja Ameerika turge. Loodame saada teie pikaajaliseks partneriks Hiinas.
Loe rohkemSaada päringVõite olla kindel, et ostate meie tehasest pooljuhtplaatide kanduri MOCVD-seadmete jaoks. Pooljuhtplaatide kandurid on MOCVD-seadmete oluline komponent. Neid kasutatakse pooljuhtplaatide transportimiseks ja kaitsmiseks tootmisprotsessi ajal. MOCVD seadmete pooljuhtplaatide kandurid on valmistatud kõrge puhtusastmega materjalidest ja on loodud säilitama vahvlite terviklikkust töötlemise ajal.
Loe rohkemSaada päringSemicorex MOCVD Wafer Carriers for Semiconductor Industry on tipptasemel kandur, mis on mõeldud kasutamiseks pooljuhtide tööstuses. Selle kõrge puhtusastmega materjal tagab ühtlase termilise profiili ja laminaarse gaasivoolu mustri, pakkudes kvaliteetseid vahvleid.
Loe rohkemSaada päringSemicorex SiC Coated Plate Carriers for MOCVD on kvaliteetne kandja, mis on mõeldud kasutamiseks pooljuhtide tootmisprotsessis. Selle kõrge puhtusaste, suurepärane korrosioonikindlus ja ühtlane termiline profiil muudavad selle suurepäraseks valikuks neile, kes otsivad kandurit, mis talub pooljuhtide tootmisprotsessi nõudeid.
Loe rohkemSaada päringSemicorex on ränikarbiidiga kaetud grafiidisusceptori suurtootja ja tarnija Hiinas. Semicorexi grafiidisusseptor, mis on konstrueeritud spetsiaalselt kõrge kuuma- ja korrosioonikindlusega epitaksiseadmete jaoks Hiinas. Meie RTP RTA SiC Coated Carrieril on hea hinnaeelis ja see katab paljusid Euroopa ja Ameerika turge. Loodame saada teie pikaajaliseks partneriks.
Loe rohkemSaada päringSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on väga vastupidav ja usaldusväärne toode vahvlilaastude epiksiaalkihtide kasvatamiseks. Selle kõrge temperatuuri oksüdatsioonikindlus ja kõrge puhtusaste muudavad selle sobivaks kasutamiseks pooljuhtide tööstuses. Selle ühtlane termiline profiil, laminaarne gaasivoolumuster ja saastumise vältimine muudavad selle ideaalseks valikuks kvaliteetse epiksiaalse kihi kasvatamiseks.
Loe rohkemSaada päring