Vahvlihoidja ICP söövitusprotsessi jaoks

Valige Semicorexi vahvlihoidik ICP söövitusprotsessi jaoks, et tagada vahvlite käsitsemise ja õhukese kile sadestamise protsesside usaldusväärne ja järjepidev toimimine. Meie toode pakub kõrgel temperatuuril oksüdatsioonikindlust, kõrget puhtust ja korrosioonikindlust hapete, leeliste, soolade ja orgaaniliste reaktiivide suhtes.
Meie vahvlihoidik ICP söövitusprotsessi jaoks on loodud parima laminaarse gaasivoolu mustri saavutamiseks, tagades termilise profiili ühtluse. See aitab vältida saastumist või lisandite difusiooni, tagades vahvlikiibil kvaliteetse epitaksiaalse kasvu.
Võtke meiega ühendust juba täna, et saada lisateavet meie vahvlihoidja kohta ICP söövitusprotsessi jaoks.

Vahvlihoidja parameetrid ICP söövitusprotsessi jaoks

Vahvlihoidja omadused ICP söövitusprotsessi jaoks

- Vältige mahakoorumist ja veenduge, et kõik pinnad oleksid kaetud

Kõrge temperatuuriga oksüdatsioonikindlus: stabiilne kõrgetel temperatuuridel kuni 1600°C

Kõrge puhtusastmega: valmistatud CVD keemilise aur-sadestamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.

Korrosioonikindlus: kõrge kõvadus, tihe pind ja peened osakesed.

Korrosioonikindlus: hape, leelis, sool ja orgaanilised reagendid.

- Saavutage parim laminaarse gaasivoolu muster

- Termoprofiili ühtluse garantii

- Vältige saastumist või lisandite levikut