Plasma söövitusplaat ICP

Kui rääkida õhukese kile pealekandmisest ja vahvlite käsitsemisest, usaldage Semicorexi ICP plasmasöövitusplaati. Meie toode pakub suurepärast kuuma- ja korrosioonikindlust, ühtlast termilist ühtlust ja optimaalseid laminaarseid gaasivoolu mustreid. Puhta ja sileda pinnaga meie kandja sobib suurepäraselt puutumata vahvlite käsitsemiseks.

Meie ICP plasmasöövitusplaat on loodud parima laminaarse gaasivoolu mustri saavutamiseks, tagades termilise profiili ühtluse. See aitab vältida saastumist või lisandite difusiooni, tagades vahvlikiibil kvaliteetse epitaksiaalse kasvu.

Võtke meiega ühendust juba täna, et saada lisateavet meie ICP plasmasöövitusplaadi kohta.

ICP plasmasöövitusplaadi parameetrid

ICP plasmasöövitusplaadi omadused

- Vältige mahakoorumist ja veenduge, et kõik pinnad oleksid kaetud

Kõrge temperatuuriga oksüdatsioonikindlus: stabiilne kõrgetel temperatuuridel kuni 1600°C

Kõrge puhtusastmega: valmistatud CVD keemilise aur-sadestamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.

Korrosioonikindlus: kõrge kõvadus, tihe pind ja peened osakesed.

Korrosioonikindlus: hape, leelis, sool ja orgaanilised reagendid.

- Saavutage parim laminaarse gaasivoolu muster

- Termoprofiili ühtluse garantii

- Vältige saastumist või lisandite levikut