Silikoonist söövitusplaat PSS-i söövitusrakenduste jaoks

Semicorexi ränisöövitusplaat PSS-söövitusrakenduste jaoks on kvaliteetne ülipuhas grafiidikandja, mis on spetsiaalselt loodud epitaksiaalseks kasvatamiseks ja vahvlite käsitsemiseks. Meie kandur talub karmi keskkonda, kõrgeid temperatuure ja karmi keemilist puhastust. PSS-i söövitusrakenduste jaoks mõeldud räni söövitusplaadil on suurepärased soojusjaotusomadused, kõrge soojusjuhtivus ja see on kulutõhus. Meie tooteid kasutatakse laialdaselt paljudel Euroopa ja Ameerika turgudel ning loodame saada teie pikaajaliseks partneriks Hiinas.

Saada päring

Tootekirjeldus

Semicorexi ränisöövitusplaat PSS-söövitusrakenduste jaoks on loodud kõige nõudlikumate epitakseerimisseadmete jaoks. Meie ülipuhas grafiidikandur talub karmi keskkonda, kõrgeid temperatuure ja karmi keemilist puhastust. SiC-ga kaetud kandjal on suurepärased soojusjaotusomadused, kõrge soojusjuhtivus ja see on kulutõhus.

Ränisöövitusplaadi parameetrid PSS-i söövitusrakenduste jaoks

CVD-SIC katte peamised spetsifikatsioonid
SiC-CVD omadused
Kristalli struktuur	FCC β faas
Tihedus	g/cm³	3.21
Kõvadus	Vickersi kõvadus	2500
Tera suurus	μm	2-10
Keemiline puhtus	%	99.99995
Soojusvõimsus	J kg-1 K-1	640
Sublimatsiooni temperatuur	℃	2700
Üleseksuaalne tugevus	MPa (RT 4-punktiline)	415
Youngi moodul	Gpa (4pt bend, 1300 ℃)	430
Soojuspaisumine (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Soojusjuhtivus	(W/mK)	300