Silikoonist söövitusplaat PSS-i söövitusrakenduste jaoks

Semicorexi ränisöövitusplaat PSS-söövitusrakenduste jaoks on loodud kõige nõudlikumate epitakseerimisseadmete jaoks. Meie ülipuhas grafiidikandur talub karmi keskkonda, kõrgeid temperatuure ja karmi keemilist puhastust. SiC-ga kaetud kandjal on suurepärased soojusjaotusomadused, kõrge soojusjuhtivus ja see on kulutõhus.

Ränisöövitusplaadi parameetrid PSS-i söövitusrakenduste jaoks

Silicon Etch Plate omadused PSS-i söövitusrakenduste jaoks

- Vältige mahakoorumist ja veenduge, et kõik pinnad oleksid kaetud

Kõrge temperatuuriga oksüdatsioonikindlus: stabiilne kõrgetel temperatuuridel kuni 1600°C

Kõrge puhtusastmega: valmistatud CVD keemilise aur-sadestamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.

Korrosioonikindlus: kõrge kõvadus, tihe pind ja peened osakesed.

Korrosioonikindlus: hape, leelis, sool ja orgaanilised reagendid.

- Saavutage parim laminaarse gaasivoolu muster

- Termoprofiili ühtluse garantii

- Vältige saastumist või lisandite levikut