Silicon Wafer paat

Semicorex saab kohandada ränivahvlipaadi struktuuri, sealhulgas soone varda kuju, soone hamba pikkust, kuju, kaldenurka ja vahvlite kogulaadimisvõimet, ning seda saab toota vastavalt kliendi nõudmistele. Kõrge temperatuuriga ränipaadid võivad tõhusalt vähendada räniplaatide kontaktkahjustusi ja parandada protsessi saagist. Selle kõrge temperatuuriga "libisemiskindlate tornide" disain toetab vahvleid ainult tugihamba otsas. VõrreldesÜmberkristallitud, ränil on suhteliselt madal kõvadus, mis vähendab vahvlite mehaanilisi kahjustusi, parandades seeläbi võre läbilaskevõimet ja vähendades tõhusalt tootmiskulusid. Sulatatud silikoonpaat koosneb mitmest osast: hammastest, alusplaadist ja pealisplaadist, mis on kokku sulatatud. See vähendab tootmiskulusid. Osalise kahjustuse korral saab kahjustatud osad asendada kogu ränipaadi väljavahetamata, vähendades oluliselt kasutuskulusid. Lisaks on ränipaadil polüräni sadestamiseks suur ülempiir, mis võib tõhusalt vähendada PM-seadmete sagedust ja parandada tootmisvõimsust.

Semicorex Silicon Wafer Boat on uuenduslik, spetsiaalselt loodud vahvlikandja. See on loodud spetsiaalselt pooljuhtide tööstuses kasutatavaks kõrgtemperatuurseks ahjutöötluseks, sealhulgas oksüdatsiooni- ja redutseerimisprotsessideks temperatuurivahemikus 1200–1250 °C. Silicon Wafer Boat, millel on jõudluse eelised, mida ränikarbiidist (SiC) pole saadaval, pakub eeliseid, mis on seotud pooljuhtide tootmise rangete protsessidega. Esiteks, ränimaterjali ülikõrge puhtus on märkimisväärne; tegelikult,räni materjalSemicorex Silicon Wafer Boat on uuenduslik, spetsiaalselt loodud vahvlikandja. See on loodud spetsiaalselt pooljuhtide tööstuses kasutatavaks kõrgtemperatuurseks ahjutöötluseks, sealhulgas oksüdatsiooni- ja redutseerimisprotsessideks temperatuurivahemikus 1200–1250 °C. Silicon Wafer Boat, millel on jõudluse eelised, mida ränikarbiidist (SiC) pole saadaval, pakub eeliseid, mis on seotud pooljuhtide tootmise rangete protsessidega. Esiteks, ränimaterjali ülikõrge puhtus on märkimisväärne; tegelikult,

Teine eelis,räni materjalon selle madalama kõvaduse omadused võrreldes SiC materjaliga. SiC vardad või paadid on tuntud kõvaduse ja tugevuse poolest, kuid need omadused võivad tekitada raskusi vahvlite töötlemisel. Kõrgel temperatuuril hakkavad vahvlid mikroliikuma; paadis olles põrkuvad need kergelt, nihkuvad veidi ja serv kõverdub. Kõvem SiC materjal võib tekitada suuremaid osakesi või kriimustusi vahvli tagaküljele, kuna vahvli ja paadi omadused nendes kõrge temperatuuriga töötlemistingimustes mõjutavad.

Silicon Wafer Boat leevendab seda muret, kasutades ära räni suhteliselt pehmet iseloomu võrreldes ränidioksiidiga. Kõvaduse vähendamine võimaldab nii väiksemat hõõrdumist kui ka mehaanilist pinget, kui vahvlid puutuvad termiliste tsüklite ajal paadiga kokku. Selle tulemusena tekib osakesi harvemini ja tagakülje kriimustuste oht väheneb peaaegu nullini. Lisaks, minimeerides pinnadefekte, parandab Silicon Wafer Boat otseselt võre kvaliteeti ja tõstab töödeldud vahvlite üldist kvalifitseerimismäära. Pooljuhttoodete jaoks, mis soovivad maksimaalse kvaliteedikontrolliga tootlikkust parandada, muudab selline jõudlus silikoonpaadi ahvatlevaks valikuks.

Räni pakub kõrgetel temperatuuridel head stabiilsust ja mehaanilist tugevust, võimaldades paadil korduvate ahjutsüklite ajal usaldusväärselt teenida. Materjal on vastupidav kütte- ja jahutustsüklite ajal kõverdumisele ning seega säilitab vahvlite täpse paigutuse ja positsioneerimise tolerantsi isegi kiirete ahjutsüklite ajal. See termiline vastupidavus tagab töökindlad protsessitulemused, mis on piisavalt järjepidevad suuremahuliseks tootmiseks ja käikude vahel minimaalsed kõikumised. Silicon Wafer Boat on ehitatud suure mõõtmete täpsusega, et tagada vahvlite ühtlane positsioneerimine ja paigutus. Paat on valmistatud täiustatud töötlemise ja poleerimisega, et luua siledad pinnad, tihe geomeetria ja kitsad tolerantsid.