Räni pihusti

Semicorex Silicon Injector on ülikõrge puhtusastmega komponent, mis on loodud gaasi täpseks kohaletoimetamiseks polüräni ja õhukese kile sadestamise süsteemides madala rõhuga keemilise aurustamise-sadestamise (LPCVD) süsteemides. Valmistatud 9N-st (99,9999999%)kõrge puhtusastmega räni, see peen torukujuline pihusti tagab ülima puhtuse, ühilduvuse kemikaalidega ja termilise stabiilsuse äärmuslikes protsessitingimustes.

Kuna pooljuhtide tootmine areneb jätkuvalt kõrgema integratsioonitaseme ja saastetõrje rangema kontrolli suunas, peavad kõik sadestuskambris olevad gaasivarustuskomponendid vastama varasemast kõrgematele standarditele. Semicorex Silicon Injector on välja töötatud spetsiaalselt seda tüüpi nõuete jaoks – gaasiliste materjalide kohaletoimetamine stabiilsel ja ühtlasel viisil kogu reaktsioonikambrisse, ilma et see tekitaks saastumist, mis mõjutaks negatiivselt kile kvaliteeti või vahvli saagist.

Injektor on valmistatud monokristallilisest või polükristallilisest ränist olenevalt protsessi nõuetest ning materjal on projekteeritud nii, et see sisaldaks vähe metallilisi, tahkeid osakesi ja ioonseid lisandeid. See tagab ühilduvuse ülipuhaste LPCVD tingimustega, kus isegi saastejääk võib põhjustada kile defekti või seadme rikke. Räni kasutamine alusmaterjalina vähendab ka materjali mittevastavust pihusti ja kambri ränikomponentide vahel, mis vähendab oluliselt osakeste tekke riske või keemilisi reaktsioone kasutamise ja kõrge temperatuuriga töötamise ajal.

Silicon Injectori spetsiaalne torukujuline struktuur võimaldab gaasi kontrollitud ja võrdset jaotust ühtlase vahvlikoormuse ulatuses. Mikrotehnilised avad ja sile sisepind tagavad reprodutseeritavad voolukiirused koos laminaarse gaasi dünaamikaga, mis on kriitilise tähtsusega ühtlase kile paksuse ja stabiilse sadestumiskiiruse tagamiseks ahjus. Olgu selleks silaan (SiH₂), diklorosilaan (SiH₂Cl2) või muud reaktiivsed gaasid, pakub pihusti töökindlat jõudlust ja täpsust, mis on vajalik kvaliteetse polüränikile kasvatamiseks.

Tänu suurepärasele termilisele stabiilsusele talub Semicorex Silicon Injector temperatuuri kuni 1250 °C ja seda saab juhtida kartmata deformatsiooni, pragunemist või kõverdumist kõrge temperatuuriga LPCVD mitme tsükli jooksul. Lisaks tagavad selle kõrge oksüdatsioonikindlus ja keemiline inertsus pika töötamise oksüdeerivas, redutseerivas või söövitavas keskkonnas, vähendades samal ajal hooldust ja luues protsessi stabiilsuse.

Iga pihusti valmistamisel kasutatakse tipptasemel CNC-töötlust ja poleerimist, saavutades mõõtmete tolerantsid alla mikroni ja pinna ülisileda viimistluse. Kvaliteetne pinnaviimistlus minimeerib gaasi turbulentsi, tekitades väga vähe või üldse mitte osakesi, tagades samal ajal ühtlased vooluomadused ebaühtlaste soojus- ja rõhumuutuste korral. Täppis tootmine tagab rangelt kontrollitud protsessid, reprodutseeritavad usaldusväärsed tulemused ja seega seadmete ühtlase jõudluse.

Semicorex toodab eritellimusel valmistatud silikoonpihusteid, mis on saadaval kohandatud pikkuse, läbimõõdu ja düüside konfiguratsiooniga. Gaasi hajumise mustrite parandamiseks ühekordsete reaktorite geomeetriate või sadestusretseptide jaoks saab välja töötada kohandatud lahendused. Iga pihusti kontrollitakse ja kontrollitakse puhtuse suhtes, et tagada kõrgeima tasemega pooljuhträni komponendid.

Semicorex Silicon Injector tagab tänapäevases pooljuhtide tootmises nõutava täpsuse ja puhtuse. 9N ülikõrge puhtusastmega räni, mikronitaseme töötlemistäpsus ning kõrge termiline ja keemiline stabiilsus tagab ühtlase gaasijaotuse, väiksema osakeste tekke ja erakordse töökindluse LPCVD polüräni sadestamisel.