Kui rääkida vahvlite käitlemise protsessidest, nagu epitaksimine ja MOCVD, on Semicorexi kõrge temperatuuriga SiC kate plasmasöövituskambrite jaoks parim valik. Meie kandurid tagavad suurepärase kuumakindluse, ühtlase termilise ühtluse ja vastupidava keemilise vastupidavuse tänu meie peenele SiC kristallkattele.
Loe rohkemSaada päringOma erakordse soojusjuhtivuse ja soojusjaotuse omadustega on pooljuhtepitaksiaalreaktori Semicorexi tünnistruktuur ideaalne valik kasutamiseks LPE protsessides ja muudes pooljuhtide tootmise rakendustes. Selle kõrge puhtusastmega SiC kate tagab suurepärase kaitse kõrgel temperatuuril ja söövitavas keskkonnas.
Loe rohkemSaada päring