Tooted

Semicorexi SiC keraamilised konsoollabad on suure jõudlusega komponendid, mis on mõeldud termilise töötlemise ahjudele, mida kasutatakse sellistes valdkondades nagu pooljuhtide ja fotogalvaaniliste elementide tootmine. Semicorex valib hoolikalt kõrge puhtusastmega ränikarbiidmaterjale ja kasutab tööstusharu juhtivaid täppistootmisprotsesse, oodates teie ostu meie kvaliteetsete toodete ja teenustega.

Semicorexi PV-kasutusega SiC paadid on kõrge temperatuurikindlad mahutid, mida kasutatakse spetsiaalselt räniplaatide hoidmiseks ja transportimiseks kogu fotogalvaanilise elemendi tootmisprotsessi vältel. Semicorex, teie ideaalne valik.

Semicorex SiC Ceramic Paddle on kõrge puhtusastmega konsoolkomponent, mis on loodud kõrge temperatuuriga pooljuhtahjude jaoks, mida kasutatakse peamiselt oksüdatsiooni- ja difusiooniprotsessides. Semicorexi valimine tähendab juurdepääsu täiustatud keraamilistele lahendustele, mis tagavad erakordse stabiilsuse, puhtuse ja vastupidavuse kriitiliste vahvlite käitlemise rakenduste jaoks.*

Semicorex CVD SiC dušipead on kõrge puhtusastmega, täpselt konstrueeritud komponent, mis on mõeldud CCP ja ICP söövitussüsteemide jaoks täiustatud pooljuhtide tootmises. Semicorexi valimine tähendab kõige nõudlikumate plasmaprotsesside jaoks usaldusväärsete lahenduste saamist, millel on suurepärane materjalipuhtus, töötlemistäpsus ja vastupidavus.*

Semicorex SiC-kattega Halfmoon Parts on täpselt konstrueeritud komponendid, mis on loodud epitaksiaalseadmete olulisteks elementideks, kus kaks poolkuu kujulist osa moodustavad tervikliku südamikukoostu. Semicorexi valimine tähendab usaldusväärsete, kõrge puhtusastmega ja vastupidavate lahenduste tagamist, mis tagavad pooljuhtide stabiilse toe ja tõhusa soojusjuhtivuse.*

Semicorex SiC Heating Filament on ränikarbiidiga kaetud grafiidist küttekeha, mis on mõeldud vahvlikoojenduseks täiustatud pooljuhtide tootmises. Semicorexi valimine tähendab usaldusväärse partneri valimist, kes pakub kõrge puhtusastmega materjale, täpset kohandamist ja kauakestvat jõudlust kõige nõudlikumate termiliste protsesside jaoks.*