- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Firmauudised
Plasmaprotsessid CVD operatsioonides
Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD) viitab protsessitehnoloogiale, kus mitmed erineva osarõhuga gaasilised reagendid läbivad teatud temperatuuri- ja rõhutingimustel keemilise reaktsiooni. Saadud tahke aine ladestub alusmaterjali pinnale, saades seeläbi soovitud õhukese kile. Traditsioonilistes i......
Loe rohkem
Ränist epitaksiaalsed kihid ja substraadid pooljuhtide tootmises
Kaasaegses elektroonikas, optoelektroonikas, mikroelektroonikas ja infotehnoloogia valdkondades on pooljuhtsubstraadid ja epitaksiaaltehnoloogiad asendamatud. Need loovad tugeva aluse suure jõudlusega ja suure töökindlusega pooljuhtseadmete tootmiseks. Kuna tehnoloogia areneb edasi, edenevad ka pool......
Loe rohkem
Esimene 6-tollise galliumoksiidi substraadi industrialiseerimise ettevõte
Hiljuti teatas meie ettevõte, et ettevõte on edukalt välja töötanud 6-tollise galliumoksiidi monokristalli, kasutades valumeetodit, saades esimeseks kodumaiseks tööstusettevõtteks, kes valdab 6-tollise galliumoksiidi monokristalli substraadi valmistamise tehnoloogiat.
Loe rohkem
Soojusvälja isolatsioonimaterjal
Monokristallilise räni kasvuprotsess toimub valdavalt termilises väljas, kus termilise keskkonna kvaliteet mõjutab oluliselt kristallide kvaliteeti ja kasvuefektiivsust. Soojusvälja disain mängib pöördelist rolli temperatuurigradientide ja gaasivoolu dünaamika kujundamisel ahjukambris. Lisaks mõjuta......
Loe rohkem
