Ahjutorud LPCVD jaoks

LPCVD protsess on õhukese kile sadestamise protsess, mis viiakse läbi madala rõhu (tavaliselt vahemikus 0,1 kuni 1 Torr) vaakumi tingimustes. Need madala rõhuga vaakumtöötingimused võivad aidata edendada lähtegaaside ühtlast difusiooni üle vahvli pinna, muutes selle ideaalseks materjalide, sealhulgas Si₃N4, polü-Si, SiO2, PSG ja teatud metallkilede, nagu volfram, täpseks sadestamiseks.

Ahju torudon LPCVD olulised komponendid, mis toimivad stabiilsete loomiskambritena vahvlite LPCVD töötlemisel ja aitavad kaasa suurepärasele kile ühtlusele, erakordsele astmelisele katvusele ja pooljuhtplaatide kõrgele kilekvaliteedile.

Semicorexi ahjutorude eelised LPCVD jaoks

1. Usaldusväärne tihendusjõudlus

Semicorexi ahjutorud LPCVD jaoks on valmistatud 3D-printimise tehnoloogia abil, millel on õmblusteta terviklik struktuur. See nõrkade külgedeta integreeritud struktuur väldib traditsiooniliste keevitus- või montaažiprotsessidega seotud õmblusi ja lekkeriske, tagades protsessi parema tihendamise.  Semicorex ahjutorud LPCVD jaoks sobivad eriti hästi madala rõhu ja kõrge temperatuuriga LPCVD protsesside jaoks, mis võivad oluliselt vältida protsessigaasi leket ja välisõhu sissetungimist.

2. Suurepärased termilised omadused

Kvaliteetsest pooljuhtkvaliteediga toorainest valmistatud LPCVD Semicorexi ahjutorudel on kõrge soojusjuhtivus ja suurepärane soojuslöögikindlus. Need silmapaistvad soojusomadused muudavad LPCVD jaoks mõeldud Semicorexi ahjutorud stabiilseks töötamiseks temperatuurivahemikus 600–1100 °C ja tagavad ühtlase temperatuurijaotuse kvaliteetse vahvlite termilise töötlemise jaoks.

3. Range puhtuse kontroll

Semicorex kontrollib ahjutorude puhtust alates materjali valiku etapist. Kõrge puhtusastmega toorainete kasutamine annab Semicorexi ahjutorudele LPCVD jaoks võrreldamatult madala lisanditesisalduse. Maatriksimaterjali lisandite taset kontrollitakse alla 100 PPM ja CVD SiC-kattematerjali hoitakse alla 1 PPM. Lisaks läbib iga ahjutoru enne tarnimist range puhtusekontrolli, et vältida lisandite saastumist LPCVD protsessi ajal.

4.Ühtne ja tihe kattekaitse

Keemilise aurustamise-sadestamise teel on LPCVD jaoks mõeldud Semicorexi ahjutorud kindlalt kaetud tiheda ja ühtlase SiC-kattega. NeedCVD SiC kattedneil on tugev adhesioon, mis hoiab ära katte koorumise ja komponentide lagunemise ohu isegi siis, kui see puutub kokku karmide kõrge temperatuuri ja söövitavate tingimustega.