Hiina Spetsiaalne grafiit Tootjad, tarnijad, tehas

Spetsiaalne grafiit on omamoodi kunstlik grafiit, mida töödeldakse. See on oluline materjal, mis on hädavajalik pooljuhtide ja fotogalvaanilise tootmisprotsessi kõigis aspektides, sealhulgas kristallide kasv, ioonide implantatsioon, epitaksia jne.

1. räni karbiidi (sic) kristallide kasv

Räni karbiidi kui kolmanda põlvkonna pooljuhtide materjali kasutatakse laialdaselt uutes energiasõidukites, 5G kommunikatsioonis ja muudes põldudes. 6-tollise ja 8-tollise SIC kristallide kasvuprotsessis kasutatakse isostaatilist grafiiti peamiselt järgmiste põhikomponentide valmistamiseks:

Grafiidi tiiglis: seda saab kasutada SIC -pulbri lähteaine sünteesimiseks ja ka kristallide kasvu abistamiseks kõrgel temperatuuril. Selle kõrge puhtus, kõrge temperatuuriga vastupidavus ja termiline šokikindlus tagavad stabiilse kristallide kasvukeskkonna.

Grafiitküttekeha: see tagab ühtlase soojusjaotuse, tagades kvaliteetse SIC kristallide kasvu.

Isolatsioonitoru: see säilitab temperatuuri ühtluse kristallide kasvu ahjus ja vähendab soojuskadu.

2. ioonide implanteerimine

Ioonide implanteerimine on pooljuhtide tootmisel võtmeprotsess. Isostaatilist grafiiti kasutatakse peamiselt järgmiste komponentide valmistamiseks ioonide implanteerides:

Grafiidi gettr: see neelab ioontala lisandite ioonid, tagades ioonide puhtuse.

Grafiitide keskendumisrõngas: see keskendub ioonkiirele, parandades ioonide implantaadi täpsust ja tõhusust. Grafiidi substraadi alused: kasutatakse räni vahvlite toetamiseks ning stabiilsuse ja järjepidevuse säilitamiseks ioonide implantatsiooni ajal.

3. epitaksia protsess

Epitaxy protsess on pooljuhtide seadmete tootmisel kriitiline samm. Isostaatiliselt pressitud grafiiti kasutatakse peamiselt järgmiste komponentide valmistamiseks epitaksiahjudes:

Grafiidialused ja -stpellivad: kasutatakse räni vahvlite toetamiseks, pakkudes epitaksia protsessi ajal stabiilset tuge ja ühtlast soojusjuhtivust.

4. muud pooljuhtide tootmise rakendused

Isostaatiliselt pressitud grafiiti kasutatakse laialdaselt ka järgmistes pooljuhtide tootmisrakendustes:

Söövitusprotsess: kasutatakse söövitajate jaoks grafiidi elektroodide ja kaitsekomponentide tootmiseks. Selle korrosiooniresistentsus ja kõrge puhtus tagavad stabiilsuse ja täpsuse söövitusprotsessis.

Keemiline aurude sadestumine (CVD): kasutatakse CVD -ahjudes grafiidialuste ja küttekehade tootmiseks. Selle kõrge soojusjuhtivus ja kõrge temperatuuriga vastupidavus tagavad õhukese kile ühtlase ladestumise.

Pakenditestimine: kasutatud testide ja kandealuste tootmiseks. Selle kõrge täpsus ja madal saastumine tagavad täpsed katsetulemused.

Grafiidosade eelised

Suur puhtus:

Kasutades kõrge puhtusastmega isostaatiliselt pressitud grafiidimaterjali, millel on äärmiselt madala lisandisisu, vastab see pooljuhtide tootmise rangetele materiaalse puhtuse nõuetele. Ettevõtte enda puhastusahi võib puhastada grafiidi alla 5 ppm.

Suur täpsus:

Täiustatud töötlemisseadmete ja küpsete töötlemistehnoloogia abil tagab see, et toote mõõtmete täpsus ning vormi- ja positsioonilänumised jõuavad mikronitasandile.

Suur jõudlus:

Tootel on suurepärane kõrge temperatuuriga vastupidavus, korrosioonikindlus, kiirguskindlus, kõrge soojusjuhtivus ja muud omadused, mis vastavad pooljuhtide tootmise mitmesugustele karmidele töötingimustele.

Kohandatud teenus:

Kohandatud tootekujunduse ja töötlemisteenuseid saab pakkuda vastavalt kliendi vajadustele, et vastata erinevate rakenduse stsenaariumide vajadustele.

Grafiiditoodete tüübid

(1) isostaatiline grafiit
Isostaatilisi grafiiditooteid toodetakse külma isostaatilise pressimisega. Võrreldes muude moodustamismeetoditega, on selle protsessi toodetud tiiglitel suurepärane stabiilsus. SIC -i üksikkristallide jaoks vajalikud grafiiditooted on kõik suured, mis põhjustab ebaühtlast puhtust pinnal ja grafiidiproduktide sees, mis ei vasta kasutusnõuetele. SIC-i üksikkristallide jaoks vajalike suuremahuliste grafiidiproduktide sügavate puhastusnõuete täitmiseks tuleks kasutada ainulaadset kõrgtemperatuuriga termokeemilist impulsi puhastamise protsessi, et saavutada suurte või spetsiaalsete grafiiditoodete sügav ja ühtlane puhastamine, nii et toote pinna ja südamiku puhtus saaksid kasutusnõuded täita.

(2) poorne grafiit
Poorne grafiit on teatud tüüpi grafiidi tüüp, millel on kõrge poorsus ja madal tihedus. SIC kristallide kasvuprotsessis mängib poorsel grafiidil olulist rolli massiülekande ühtluse parandamisel, vähendades faasimuutuse esinemissagedust ja parandades kristalli kuju.
Poorse grafiidi kasutamine parandab tooraine piirkonna temperatuuri ja temperatuuri ühtsust, suurendab tiigli aksiaalse temperatuuri erinevust ja sellel on ka teatav mõju tooraine pinna ümberkristallimise nõrgestamisele; Kasvukambris parandab poorne grafiit materjali voolu stabiilsust kogu kasvuprotsessi vältel, suurendab kasvupindala C/SI suhet, aitab vähendada faasi muutumise tõenäosust ja samal ajal mängib poorne grafiit ka rolli kristallide liidese parandamisel.

(3) vild
Pehme vild ja kõva vild mängivad mõlemad oluliste soojuisolatsioonimaterjalide rolli SIC kristallide kasvu ja epitaksiaalse seoste korral.

(4) grafiidifoolium
Grafiidipaber on funktsionaalne materjal, mis on valmistatud kõrge süsinikusisaldusega helveste grafiidist keemilise töötlemise ja kõrgtemperatuuriga veeremise kaudu. Sellel on kõrge soojusjuhtivus, elektrijuhtivus, paindlikkus ja korrosioonikindlus.

(5) komposiitmaterjalid
Süsinik-süsiniku soojusväli on üks fotogalvaaniliste üksikkristallide ahjude tootmisel.

Semikorexi tootmine

Semicorex valmistage grafiidi koos väikeste partiidega, kohandatud tootmismeetoditega. Väikeste partiide tootmine muudab tooted paremini kontrollitavaks. Kogu protsessi juhivad programmeeritavad loogikakontrollerid (PLC), registreeriti üksikasjalikud protsessi andmed, võimaldades täielikku elutsükli jälgitavust.

Kogu röstimisprotsessi ajal saavutati konsistents takistuses erinevates kohtades ja kitsas temperatuurikontroll. See tagab grafiidimaterjalide homogeensuse ja usaldusväärsuse.

Semicorex kasutab täielikult isostaatilist pressimistehnoloogiat, mis erineb teistest tarnijatest; See tähendab, et grafiit on iseenesest ultravorm ja see on epitaksiaalsetes protsessides eriti oluline. Viidi läbi põhjalikud materiaalsed ühtsuse testid, sealhulgas tihedus, vastupidavus, kõvadus, paindetugevus ja tugevus erinevates proovides.