Silikoonist pjedestaal

Semicorex Silicon Postament, sageli tähelepanuta jäetud, kuid kriitiliselt oluline komponent, mängib olulist rolli täpsete ja korratavate tulemuste saavutamisel pooljuhtide difusiooni- ja oksüdatsiooniprotsessides. Spetsiaalne platvorm, millel kõrgtemperatuurilistes ahjudes toetuvad ränipaadid, pakub ainulaadseid eeliseid, mis aitavad otseselt kaasa temperatuuri ühtlasemale, vahvlikvaliteedi paranemisele ja lõppkokkuvõttes suurepärasele pooljuhtseadmete jõudlusele.**

Saada päring

Tootekirjeldus

1. Semicorexi silikoonist alus, mis stabiliseerib töötlemiskeskkonda optimaalsete tulemuste saavutamiseks:

Kristallpaatide jaoks stabiilse aluse loomine:Silikoonist pjedestaal pakub ränipaatidele tugeva ja termiliselt stabiilse platvormi kõrge temperatuuriga ahjukambris. See stabiilsus tagab, et paadid säilitavad oma asendi ja orientatsiooni kogu protsessi vältel, vältides soovimatut liikumist või kaldumist, mis võib häirida gaasivoolu dünaamikat ja ohustada temperatuuri ühtlust.

Temperatuuri ühtsuse suurendamine reaktsioonikambris:Isoleerides tõhusalt ränipaadi ahju põrandast ja seintest, minimeerib Silicon Postament soojuskadu juhtivuse kaudu ja soodustab ühtlasemat temperatuurijaotust termilise reaktsioonitoru sees. See täiustatud soojusjuhtimise võime on ülioluline ühtsete ja korratavate difusiooni- või oksüdatsiooniprofiilide saavutamiseks kogu vahvli pinnal.

Isolatsioonitõhususe suurendamine optimeeritud energiakasutuse jaoks:Silicon Pjedestaalile omased soojusisolatsiooniomadused aitavad kaasa energiasäästlikumale protsessile, minimeerides soojuskadu ümbritsevasse keskkonda. See tähendab kiiremaid kütte- ja jahutustsükliid, väiksemat energiatarbimist ja lõppkokkuvõttes madalamaid töötlemiskulusid.

2. Materjali sünergia suurepärase vahvlikvaliteedi saavutamiseks:

Sobiv soojuspaisumine vahvlipinge vähendamiseks:Silicon Postament, mis on valmistatud samast kõrge puhtusastmega ränimaterjalist nagu paadid ja vahvlid ise, pakub olulist eelist alternatiivsete materjalide, nagu kvarts või ränikarbiid, ees. See materjali sünergia tagab, et pjedestaal, paat ja vahvlid laienevad ja tõmbuvad kokku peaaegu identse kiirusega kütte- ja jahutustsüklite ajal, minimeerides termilise stressi, vahvli paindumise ja kristallograafiliste defektide riski, mis võivad seadme tootlikkust ja jõudlust negatiivselt mõjutada.

Saastumise ja võre mittevastavuse minimeerimine:Kõrge puhtusastmega räni kasutamine nii silicon pjedestaalil kui ka paadil välistab erinevate materjalide saastumise võimaluse, tagades vahvlitele puutumatu töötlemiskeskkonna. See materjalide ühilduvus vähendab ka võre ebakõlade ohtu vahvli ja paadi liideses, aidates veelgi kaasa kristallide kvaliteedi paranemisele ja defektide tiheduse vähenemisele.