Fotogalvaanilised kvartspaadid

Semicorex fotogalvaanilinekvartspaadidon asendamatud kulumaterjalid, mis hõlbustavad monokristalliliste ja polükristalliliste räniplaatide tootmist fotogalvaanilistes fotogalvaanilistes tootmisprotsessides, nagu difusioon, oksüdatsioon ja lõõmutamine. Need on spetsiaalselt ette nähtud kõrgel temperatuuril töötlemiseks kõrge puhtusastmega lämmastiku, hapniku või muude inertsete gaaside atmosfääris, et siduda ränivahvleid ja moodustada räniplaatidele PN-ühendusi, suurendades seeläbi päikesepatareide muundamise efektiivsust ja jõudlust.

Semicorexi fotogalvaaniliste kvartspaatide eelised

1. Stabiilne kandevõime

Saab kasu kõrge puhtusastmega sulatatud sulami silmapaistvast vastupidavusest kõrgele temperatuurile ja äärmiselt madalale soojuspaisumistegurilekvarts, Semicorexi fotogalvaanilised kvartspaadid taluvad pikaajalist kõrget temperatuuri 1100-1200 kraadi Celsiuse järgi. Isegi kui nad kogesid drastilisi temperatuurikõikumisi lühikese aja jooksul, suudavad nad siiski säilitada oma konstruktsiooni terviklikkuse ilma kahjustusteta. See jõudlus võimaldab Semicorexi fotogalvaanilistel kvartspaatidel pidevalt pakkuda stabiilset tuge päikesekvaliteediga räniplaatidele keerulistes kõrge temperatuuriga töötingimustes.

2. Täpne positsioneerimine

Tagamaks, et protsessigaasid toimiksid töötamise ajal ühtlaselt räniplaatide pindadel, kasutab Semicorex täppistöötlustehnoloogiat, et tagada oma fotogalvaanilistes kvartspaatides iga pilu vahel ühtlane vahekaugus. See võrdsel kaugusel paiknev pilu konstruktsioon kindlustab räniplaadid fikseeritud asendites, et neid kuumutada ühtlaselt kõrge temperatuuriga protsesside ajal, mis parandab tõhusalt päikesepatareide jõudluse järjepidevust ja stabiilsust.

3. saastumise vältimine

Semicorexi fotogalvaanilised kvartspaadid on valmistatud madala lisandisisaldusega kõrge puhtusastmega sulatatud kvartsist. See esmaklassiline materjal annab Semicorexi fotogalvaanilistele kvartspaatidele suurepärase keemilise stabiilsuse, mis takistab neil reageerimast ränivahvlite või protsessigaasidega, vähendab lisandite sisseviimist ja säilitab tootmiskeskkonna kõrge puhtuse. Sellel omadusel on märkimisväärne mõju päikesepatareikvaliteediga räniplaatide tootmisvõimsuse parandamisele.