See on epitaksia

Si epitaksia võimaldab kujundada spetsiifilisi kihi omadusi, nagu paksus, dopingu kontsentratsioon ja koostis. Sisestades epitaksiaalsesse kihti kontrollitud koguses lisandeid, mida tuntakse lisanditena, saab saadud seadmete elektrilisi omadusi täpselt kohandada. See võimaldab luua erinevaid piirkondi, millel on erinevad juhtivuse tüübid (n-tüüpi või p-tüüpi) ja soovitud kandekontsentratsiooniga, võimaldades integreerida keerulisi elektroonilisi skeeme.

Si epitaksia on põhiprotsess täiustatud pooljuhtseadmete, sealhulgas mikroprotsessorite, mälukiipide, pildiandurite ja päikesepatareide valmistamisel. See mängib olulist rolli seadme jõudluse, miniaturiseerimise ja funktsionaalsuse parandamisel. Võimalus ladestada kvaliteetseid epitaksiaalseid kihte koos materjali omaduste täpse kontrolliga aitab kaasa pooljuhtide tööstuse jätkuvale arengule ja uuendustele.