MOCVD on põhivarustus

MOCVD-seadmed on pooljuhtide tööstuse tootmisprotsessi võtmeseadmed, aga ka suur osa seadmeinvesteeringutest pooljuhtide tööstuse ahelas (kolm põhiprotsessi ja seadmed: litograafia, söövitus, õhukese kile sadestamine), LED tootmisliini investeering, MOCVD investeeringu summa võib moodustada kuni 50%. CVD-seadmetes ei saa substraati asetada otse metallile või asetada lihtsalt aluse peale epitaksiaalseks sadestamiseks, kuna see hõlmab erinevate tegurite mõju, nagu gaasivoolu suund (horisontaalne, vertikaalne), temperatuur, rõhk, fikseerimine , eemaldab saasteaineid. Seetõttu kasutatakse alust ja substraat asetatakse kettale ning seejärel teostatakse CVD-tehnoloogia abil substraadi peal epitaksiaalne sadestamine. See alus on SiC-ga kaetud grafiitsustseptor(mida võib nimetada ka avedaja) ja selle struktuur on näidatud alloleval joonisel.